多功能高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡產(chǎn)品介紹
多功能高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 Apreo 2 SEM產(chǎn)品介紹:
多功能高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡Apreo SEM特點(diǎn):
優(yōu)異的空間分辨率及襯度
高分辨率——對(duì)于大多數(shù)樣品都能達(dá)到納米或亞納米級(jí)別的空間分辨率。采用鏡筒內(nèi)同步成像、信號(hào)過濾、復(fù)合透鏡等技術(shù),幫助提升性能,達(dá)到最佳的分辨率。
廣泛的樣品適用性
對(duì)于多種樣品類型都有極佳的樣品靈活性,包括絕緣體、敏感材料、磁性材料等等。這樣的靈活性幫助用戶獲取感興趣樣品的更多的數(shù)據(jù)。
利用ColorSEM技術(shù)實(shí)時(shí)獲取定量能譜數(shù)據(jù)
只需指尖輕輕點(diǎn)擊就可以獲取元素信息,實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)定量面分布,帶來前所未有的體驗(yàn)與易用性。
快速簡(jiǎn)便的樣品裝載過程
標(biāo)配的樣品臺(tái)可以一次性容納多個(gè)樣品,抽真空過程控制到最短時(shí)間,保證進(jìn)樣過程不浪費(fèi)時(shí)間,更加便利地裝載樣品。同時(shí)配備自動(dòng)插拔的壓差光闌(PLA)可以實(shí)現(xiàn)高真空與低真空模式之間在毋須開樣品倉(cāng)的條件下一鍵切換。
高度自動(dòng)化
高度自動(dòng)化技術(shù)包含F(xiàn)LASH技術(shù)(用于自動(dòng)圖像微調(diào))、撤銷、用戶教程、圖像傾斜與拼接。
大工作距離成像
市場(chǎng)上唯一的在大工作距離(10mm)下仍然保持高空間分辨率(1nm)性能和優(yōu)異的圖像質(zhì)量的掃描電鏡,即使對(duì)于新手用戶,也極易上手操作。
多功能高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡技術(shù)參數(shù)
多功能高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡Apreo 2 SEM規(guī)格:
分辨率
30kV下0.7nm(STEM)
15kV下0.5nm(樣品臺(tái)減速)
1kV下0.9nm
1kV下0.8nm(樣品臺(tái)減速)
1kV下1.0nm(工作距離10mm,樣品臺(tái)減速)
500V下0.8nm(樣品臺(tái)減速)
200V下1.2nm(樣品臺(tái)減速)
30kV下0.7nm(STEM)
15kV下0.9nm(樣品臺(tái)減速)
1kV下1.2nm
1kV下1.0nm(樣品臺(tái)減速)
500V下1.2nm(樣品臺(tái)減速)
標(biāo)配探測(cè)器
ETD、T1、T2、T3、IR-CCD、Nav-Cam+
PivotBeam
選區(qū)電子通道襯度模式(也稱為"搖擺光束"模式)。
選配探測(cè)器
DBS、LVD、DBS-GAD、STEM 3+、RGB-CLD、EDS、EBSD、WDS、拉曼光譜、EBIC 等
ColorSEM技術(shù)(選配)
基于能譜儀(EDS)實(shí)時(shí)定量數(shù)據(jù)對(duì)掃描電鏡圖像進(jìn)行著色。可提供的數(shù)據(jù)包含點(diǎn)分析、線掃描、面掃描、譜圖結(jié)果及可靠的Noran定量結(jié)果
著陸能量范圍
20 eV – 30 keV
樣品臺(tái)偏壓(樣品臺(tái)減速)
-4000V~+600V
低真空模式
選配:樣品倉(cāng)氣壓范圍10-500Pa
樣品臺(tái)
五軸電動(dòng)馬達(dá)臺(tái),XY軸行程范圍110x110mm2,傾斜范圍-15°~+90°
最大樣品重量:5kg(不傾斜)
最大束流
50 nA(選配 400 nA)
標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)
一款多功能樣品臺(tái),可以容納18個(gè)標(biāo)準(zhǔn)釘臺(tái)(φ12mm),有三個(gè)預(yù)傾斜樁,截面樣品臺(tái)和兩個(gè)STEM載位
樣品倉(cāng)
340mm內(nèi)寬,12個(gè)端口,最多同時(shí)安裝三個(gè)EDS(兩個(gè)互為180°),EDS、EBSD共面安裝并與樣品臺(tái)的傾轉(zhuǎn)軸正交
多功能高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡標(biāo)準(zhǔn)配置
多功能高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡可選配件
多功能高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡相關(guān)視頻
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儀器/日本Nikon顯微鏡/方JCM 6000臺(tái)式電子掃描顯微鏡.jpg)

